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＜紀要論文＞
マルチスロットアンテナを用いたECRプラズマCVD

作成者
作成者名
築山, 和好
Tsukiyama, Kazuyoshi
ツキヤマ, カズヨシ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻 : 新日本製鉄株式会社
作成者名
甲斐, 義崇
Kai, Yoshitaka
カイ, ヨシタカ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻
作成者名
篠原, 有仁
Shinohara, Naoto
シノハラ, ナオト
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻
作成者名
桑野, 範之
Kuwano, Noriyuki
クワノ, ノリユキ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科材料開発工学専攻
作成者名
沖, 憲典
Oki, Kensuke
オキ, ケンスケ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻
著者識別子
K002892
作成者名
田中, 雅慶
Tanaka, Masayoshi
タナカ, マサヨシ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻
著者識別子
L000719
作成者名
小森, 彰夫
Komori, Akio
コモリ, アキオ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻
作成者名
河合, 良信
Kawai, Yoshinobu
カワイ, ヨシノブ
所属機関
所属機関名
九州大学大学院総合理工学研究科高エネルギー物質科学専攻
本文言語
日本語
出版者
九州大学大学院総合理工学研究科
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University
発行日
1992-09-01
収録物名
九州大学大学院総合理工学報告
巻
14
号
2
開始ページ
189
終了ページ
195
出版タイプ
Version of Record
アクセス権
open access
JaLC DOI
https://doi.org/10.15017/17269
関連DOI
九州大学大学院総合理工学研究科報告 || 14(2) || p189-195
Engineering sciences reports, Kyushu University || 14(2) || p189-195
http://www.tj.kyushu-u.ac.jp/
http://www.tj.kyushu-u.ac.jp/info/online/
関連URI
九州大学大学院総合理工学研究科報告 || 14(2) || p189-195
Engineering sciences reports, Kyushu University || 14(2) || p189-195
http://www.tj.kyushu-u.ac.jp/
http://www.tj.kyushu-u.ac.jp/info/online/
関連情報
九州大学大学院総合理工学研究科報告 || 14(2) || p189-195
Engineering sciences reports, Kyushu University || 14(2) || p189-195
http://www.tj.kyushu-u.ac.jp/
http://www.tj.kyushu-u.ac.jp/info/online/
概要 An electron cyclotron resonance (ECR) plasma is produced with a mulutislot antenna, and the optimum conditions for preparation of MonC thin films are experimentally examined. Deposition of WO2 films i...s also attempted by sputtering of tungsten filaments, assisted with the ECR plasma.続きを見る

本文ファイル

pdf p189 pdf 226 KB 742  

詳細

レコードID
17269
査読有無
査読有
主題
CVD
DC
RF
CH4
Co2
ISSN
0388-1717
NCID
AN00055101
登録日 2010.06.12
更新日 2020.12.11

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