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<図書>
入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク
ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク

責任表示 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著
データ種別 図書
出版者 東京 : 工業調査会
出版年 2006.12
本文言語 日本語
大きさ 323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm
目次 第1章 フォトマスク技術の基本
第2章 半導体フォトマスク
第3章 電子部品用マスク
第4章 先端フォトマスク技術
第5章 NGLマスク技術
第6章 マスク産業の現状
第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し

所蔵情報


理系図2F 開架 031112007005094 549.7/Ta 83 2006

書誌詳細

別書名 標題紙タイトル:Introduction to photomask technology
異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク
一般注記 参考文献: 各章末
著者標目 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ>
竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ>
法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ>
件 名 BSH:リソグラフィー
分 類 NDC8:549.7
NDC9:549.7
書誌ID 1001318996
ISBN 4769312598
NCID BA79886837
巻冊次 ISBN:4769312598 ; PRICE:3800円+税
登録日 2009.09.18
更新日 2009.09.18

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