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<図書>
Principles of plasma discharges and materials processing

責任表示 Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
データ種別 図書
2nd ed
出版者 Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience
出版年 c2005
本文言語 英語
大きさ xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm
概要 In this second edition of a work for graduate students and researchers in plasma processing, Lieberman and Lichtenberg, both professors of electrical engineering at the University of California-Berkel...y, add new and revised material to reflect developments in the field and to clarify the presentation of basic principles. They cover fundamentals of plasma physics and chemistry, and apply basic theory to plasma discharges. New and expanded topics in this edition include general Bohm criteria, pulsed power discharges, and helicon discharges. Annotation ©2004 Book News, Inc., Portland, OR (booknews.com) 続きを見る
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所蔵情報


理系図1F 開架 031212006000117 427.6/L 62 2005

理系図1F 開架 031212006000120 427.6/L 62 2005

理系図1F 開架 031212007000715 427.6/L 62 2005

筑紫図 060212014001026 427.6/L 62/A 2005

筑紫図 067212009000471 427.6/L 62 2005

書誌詳細

一般注記 Includes bibliographical references (p. 735-748) and index
著者標目 *Lieberman, M. A. (Michael A.)
Lichtenberg, Allan J
件 名 LCSH:Plasma dynamics
LCSH:Thin films -- Surfaces  全ての件名で検索
LCSH:Plasma etching
LCSH:Plasma chemistry -- Industrial applications  全ての件名で検索
分 類 LCC:QC718.5.D9
DC22:530.4/4
書誌ID 1001294975
ISBN 9780471720010
NCID BA72469354
巻冊次 ISBN:9780471720010 ; XISBN:0471720011
登録日 2009.09.18
更新日 2017.02.18

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