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<図書>
On the distiction between the dissociative and kick-out mechanism for site exchange in silicon (Japanese Journal of Applied Physics,vol.31 pt.1 no.9A)

責任表示 Masayuki Yoshida
データ種別 図書
出版者 : 日本応用物理学会
本文言語 英語

所蔵情報


芸工教官著作 2階 072031291014895 AAA611/ヨシダマ/52 1992

書誌詳細

著者標目 吉田, 正幸 <ヨシダ、 マサユキ>
書誌ID 1000003910
NCID LB21868069
登録日 1995.03.01
更新日 2005.10.03