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<図書>
シリコン中に拡散した金の濃度分布(福岡工業大学エレクトロニクス研究所所報, 第9巻)

責任表示 吉田正幸
データ種別 図書
出版者 : 福岡工業大学
本文言語 日本語

所蔵情報


芸工教官著作 2階 072031291015213 AAA611/ヨシダマ/53 1992

書誌詳細

著者標目 吉田, 正幸 <ヨシダ、 マサユキ>
書誌ID 1000003664
NCID LB21868101
登録日 1995.03.01
更新日 2005.03.16