<紀要論文>
大口径マルチスロットアンテナによる均一 ECR プラズマの生成

作成者
本文言語
出版者
発行日
収録物名
開始ページ
終了ページ
出版タイプ
アクセス権
JaLC DOI
関連DOI
関連URI
関連情報
概要 A uniform ECR plasma is produced with a multi slot antenna of 280mm in diameter. The radial profile of the ion saturation current density is examined as a function of microwave power and pressure. The... radial uniformity of the ion saturation current density is within pm3% over 8 inches in diameter for the input microwave power lkW at pressure of 2mTorr. Furthermore, the deposition of a-Si:H films is attempted on glass substrates using mixture SiH4/He. When the microwave power is increased, the thickness of the films increases.続きを見る

本文ファイル

pdf p191 pdf 222 KB 345  

詳細

レコードID
査読有無
主題
ISSN
NCID
登録日 2010.06.12
更新日 2020.12.09

この資料を見た人はこんな資料も見ています