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＜Doctoral Thesis＞
誘導結合型水素プラズマによりシリコン酸化膜に導入される損傷に関する基礎的研究
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| Table of Contents | 第1章 序論 第2章 水素プラズマのプラズマパラメータ評価 第3章 水素プラズマによるレジスト､SiO_2のエッチングレート､及びSi基板へのH侵入の評価 第4章 水素プラズマの照射照射がシリコン酸化膜の電気特性に与える影響 5章 結論 |
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| File | FileType | Size | Views | Description |
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ikeda
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10.4 MB | 6,161 |
Details
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| Created Date | 2013.07.08 |
| Modified Date | 2023.12.08 |