Mendeley出力
＜博士論文＞
誘導結合型水素プラズマによりシリコン酸化膜に導入される損傷に関する基礎的研究
| 作成者 | |
|---|---|
| 本文言語 | |
| 学位授与年度 | |
| 学位授与大学 | |
| 学位 | |
| 学位種別 | |
| 出版タイプ | |
| アクセス権 | |
| JaLC DOI | |
| 関連URI | |
| 目次 | 第1章 序論 第2章 水素プラズマのプラズマパラメータ評価 第3章 水素プラズマによるレジスト､SiO_2のエッチングレート､及びSi基板へのH侵入の評価 第4章 水素プラズマの照射照射がシリコン酸化膜の電気特性に与える影響 5章 結論 |
詳細
| レコードID | |
|---|---|
| 査読有無 | |
| 報告番号 | |
| 学位記番号 | |
| 授与日(学位/助成/特許) | |
| 部局 | |
| 所蔵場所 | |
| 所蔵場所 | |
| 所在記号 | |
| 注記 | |
| 登録日 | 2013.07.08 |
| 更新日 | 2023.12.08 |