<紀要論文>
照射温度変動下の欠陥反応過程
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概要 | RTNS-ⅡでのD-T中性子の二段温度変動照射, FFTF/MOTAによる原子炉照射, JMTRでの改良型温度制御中性子照射,交番温度変動照射,さらに高エネルギーイオン照射などの温度変動環境下での照射損傷形成に関するこれまでの研究から得られた実験結果を,欠陥反応速度式を用いた欠陥蓄積に関する計算結果と比較する事により,温度変動下の損傷組織の形成を律速する基本的な欠陥反応過程を明らかにした.照射中に...試料温度が変動すると原子空孔や格子間原子などの欠陥反応過程を担う点欠陥の移動度が変化するため,照射下での欠陥濃度が変動する.新しい温度での平衡濃度に移行する過程で一時的に欠陥蓄積のバランスが崩れるため,一定温度照射下では見られないような欠陥集合体の収縮,成長が起こり,損傷組織の形成に大きな影響を与える.特に,温度を低温から高温に大きく変動させた場合や交番的に変動させた場合には顕著な影響が現れる.温度変動下での照射損傷は,常に交番的な温度変動環境下にある核融合炉の炉内材料にとっては特に重要である.続きを見る |
目次 | 1. 緒言 2. 原子炉照射実験に見られる温度変動効果 3. RTNS-ⅡによるD-T中性子の二段温度変動照射 4. JMTRにおける交番温度変動中性子照射 5. 高エネルギーNiイオン照射実験 6. 考察 7. まとめ |
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登録日 | 2022.01.18 |
更新日 | 2023.03.04 |