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＜紀要論文＞
IVD法によるTi/AlNの評価と高温時効による結晶構造変化
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| 概要 | セラミックス材AlN上にIVD法によりTi被覆した膜の結晶学的評価をX線回折法により行った．Ti層の結晶化度は低く非晶質的であるが，C軸方向の配向性が強い．1200℃/1時間の時効により膜構造は全く異なったものになった。α-Ti構造は少なくなり，新たにTiN構造とペロブスカイト型構造が出現した。 膜の深さ方向の知見を得るために，入射X線の試料表面に対する入射角を連続的に変化させて測定する方法を開発し...た。この方法を用いて膜厚，組成の深さ分布を求めた．膜厚は4.5μmであり作製目標値と一致した．高温時効の新相は膜の界面側に存在する．続きを見る |
| 目次 | 1. 序 2. 組織が深さ依存性をもつ材料のX線回析強度 3. 実験 3.1 試料 3.2 X線回析 4. 結果 5. 議論 5.1 未焼鈍試料 5.2 焼鈍による変化 6. 謝辞 |
詳細
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| 登録日 | 2022.01.18 |
| 更新日 | 2023.03.04 |