熱CVD成膜過程のモデル解析 - 九大コレクション

＜博士論文＞
熱CVD成膜過程のモデル解析

作成者	作成者姓名秋山, 泰伸 Akiyama, Yasunobu アキヤマ, ヤスノブ
本文言語	日本語
学位授与年度	1997
学位授与大学	九州大学
学位授与大学	Kyushu University
学位	博士（工学）
学位種別	論文博士
出版タイプ	Version of Record
アクセス権	open access
JaLC DOI	https://doi.org/10.11501/3130971
関連URI	https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3130971
目次	第1章緒論第2章 CVDのモデル化とシミュレーション第3章ジルコニア(Zr0_2)およびイットリア(Y_2O_3)薄膜のLPMOCVD成膜実験とモデル解析第4章イットリア安定化ジルコニア(YSZ)薄膜のLPMOCVD成膜実験とモデル解析第5章非線型表面反応速度式を示す系でのカバレッジのシミュレーション第6章ミクロトレンチ及びホールの成膜形状制御第7章総括

ファイル	ファイルタイプ	サイズ	閲覧回数
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akiyama3	pdf	9.74 MB	1,689