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＜図書＞
ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法
ドライ プロセス オウヨウ ギジュツ : チョウビサイ ソシ ノ セイホウ
| 責任表示 | 小林春洋〔ほか〕著 |
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| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | 東京 : 日刊工業新聞社 , 1984.7 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 199,6p ; 22cm |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図 自動書庫 | B/Kob | 1984 |
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068251185008960 |
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理系図 自動書庫 | U2/Kob | 1984 |
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068251186003247 |
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書誌詳細
| 著者標目 | 小林, 春洋(1925-) <コバヤシ, ハルヒロ> |
|---|---|
| 件 名 | NDLSH:電子部品 NDLSH:薄膜 NDLSH:印刷回路 |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDLC:ND354 |
| 書誌ID | 1001368449 |
| ISBN | 4526017442 |
| NCID | BN00036182 |
| 巻冊次 | ISBN:4526017442 ; PRICE:3300円 |
| NBN | JP84053480 |
| 登録日 | 2009.09.18 |
| 更新日 | 2009.09.18 |