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＜図書＞
入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク
ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク
| 責任表示 | 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著 |
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| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | 東京 : 工業調査会 , 2006.12 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm |
| 目次 | 第1章 フォトマスク技術の基本 第2章 半導体フォトマスク 第3章 電子部品用マスク 第4章 先端フォトマスク技術 第5章 NGLマスク技術 第6章 マスク産業の現状 第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図2F 開架 | 549.7/Ta 83 | 2006 |
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031112007005094 |
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書誌詳細
| 別書名 | 標題紙タイトル:Introduction to photomask technology 異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク |
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| 一般注記 | 参考文献: 各章末 |
| 著者標目 | 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ> 竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ> 法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
| 書誌ID | 1001318996 |
| ISBN | 4769312598 |
| NCID | BA79886837 |
| 巻冊次 | ISBN:4769312598 ; PRICE:3800円+税 |
| 登録日 | 2009.09.18 |
| 更新日 | 2009.09.18 |