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＜図書＞
Principles of plasma discharges and materials processing
| 責任表示 | Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg |
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| データ種別 | 図書 |
| 版 | 2nd ed |
| 出版情報 | Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience , c2005 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm |
| 概要 | In this second edition of a work for graduate students and researchers in plasma processing, Lieberman and Lichtenberg, both professors of electrical engineering at the University of California-Berkel...y, add new and revised material to reflect developments in the field and to clarify the presentation of basic principles. They cover fundamentals of plasma physics and chemistry, and apply basic theory to plasma discharges. New and expanded topics in this edition include general Bohm criteria, pulsed power discharges, and helicon discharges. Annotation ©2004 Book News, Inc., Portland, OR (booknews.com) 続きを見る |
| 電子版へのリンク | https://hdl.handle.net/2324/6901818 |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図1F 開架 | 427.6/L 62 | 2005 |
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031212006000117 |
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理系図1F 開架 | 427.6/L 62 | 2005 |
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031212006000120 |
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理系図1F 開架 | 427.6/L 62 | 2005 |
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031212007000715 |
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筑紫図 1C 400-449 | 427.6/L 62/A | 2005 |
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060212014001026 |
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筑紫図 1C 400-449 | 427.6/L 62 | 2005 |
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067212009000471 |
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書誌詳細
| 一般注記 | Includes bibliographical references (p. 735-748) and index |
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| 著者標目 | *Lieberman, M. A. (Michael A.) Lichtenberg, Allan J |
| 件 名 | LCSH:Plasma dynamics LCSH:Thin films -- Surfaces 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching LCSH:Plasma chemistry -- Industrial applications 全ての件名で検索 |
| 分 類 | LCC:QC718.5.D9 DC22:530.4/4 |
| 書誌ID | 1001294975 |
| ISBN | 9780471720010 |
| NCID | BA72469354 |
| 巻冊次 | ISBN:9780471720010 ; XISBN:0471720011 |
| 登録日 | 2009.09.18 |
| 更新日 | 2017.02.18 |