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<図書>
レジスト材料
レジスト ザイリョウ

責任表示 伊藤洋著 ; 高分子学会編集
シリーズ 高分子先端材料One Point / 高分子学会編集 ; 10
データ種別 図書
出版情報 東京 : 共立出版 , 2005.2
本文言語 日本語
大きさ iv, 104p : 挿図 ; 19cm
目次 第1章 リソグラフィ技術による微細加工とレジスト(レジストとは何か?
レジストの分類
レジストに要求される性能と特性評価法)
第2章 レジスト材料とリソグラフィ技術の発展の歴史(架橋ネガ型レジスト
ポジ型フォトレジスト ほか)
第3章 化学増幅レジスト(酸触媒反応—増幅の化学
酸発生剤 ほか)
第4章 現状と将来
第5章 おわりに

所蔵情報



理系図2F 開架 578.08/Ko 14 2006
031112006003908


筑紫図 1D 450-599 578.08/Ko 14/10 2005
067112005000423


工応化 分子情(分) 549.7/I 86 2005
027112006000502

書誌詳細

著者標目 伊藤, 洋(1946-) <イトウ, ヒロシ>
高分子学会 <コウブンシ ガッカイ>
件 名 BSH:リソグラフィー
BSH:感光性樹脂
分 類 NDC8:549.7
NDC9:549.7
書誌ID 1001274029
ISBN 4320043723
NCID BA70954224
巻冊次 ISBN:4320043723 ; PRICE:1400円+税
登録日 2009.09.18
更新日 2009.09.18

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