<図書>
Ion implantation and ion beam equipment : proceedings of the international conference, Elenite, Bulgaria, September 24-30, 1990
責任表示 | editors, D. S. Karpuzov, I. V. Katardjiev & S. S. Todorov |
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データ種別 | 図書 |
出版情報 | Singapore : World Scientific , c1991 |
本文言語 | 英語 |
大きさ | xiv, 588 p. ; 23 cm. |
概要 | The proceedings of the International Conference on [title] held in Elenite, Bulgaria, September 1990, cover ion implantation in semiconductors--device applications; ion implantation in compound semico...ductors; implantation-induced damage; annealing of defects in semiconductors; ion source technology and beam transport; ion implantation in metals, ceramics, and insulators; ion beam assisted deposition, ion beam mixing, sputtering; and materials analysis using ion beams. No index. Acidic paper. Annotation copyrighted by Book News, Inc., Portland, OR続きを見る |
所蔵情報
状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図1F 開架 | 427.5/Ka 68 | 1991 |
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068252192002132 |
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書誌詳細
著者標目 | International Conference on Ion Implantation and Ion Beam Equipment (1990 : Elenite, Bulgaria) Karpuzov, D. S. Katardjiev, I. V. Todorov, S. S. |
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書誌ID | 1001095862 |
ISBN | 9810205589 |
NCID | BA13515175 |
巻冊次 | ISBN:9810205589 |
登録日 | 2009.09.17 |
更新日 | 2009.09.17 |