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＜図書＞
Ion implantation in semiconductors and other materials : [proceedings]
| 責任表示 | edited by Billy L. Crowder |
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| シリーズ | The IBM research symposia series |
| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | New York : Plenum Press , [1973] |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | xii, 657 p. : ill. ; 26 cm |
| 目次 | Radiation damage in metals and semiconductors / W. Frank The depth distribution of phoshorus ions implanted into silicon crystals / P. Blood, G. Dearnaley, and M.A. Wilkins Theory of the spatial distribution of ion range energy deposition / D.K. Brice |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図2F 開架 | 541.64/I57 | 1973 |
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072032179008253 |
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芸工図 2F 工学図書室 | 541.64/I57/a | 1973 |
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072032179007717 |
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書誌詳細
| 内容注記 | Radiation damage in metals and semiconductors / W. Frank The depth distribution of phoshorus ions implanted into silicon crystals / P. Blood, G. Dearnaley, and M.A. Wilkins Theory of the spatial distribution of ion range energy deposition / D.K. Brice |
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| 一般注記 | Includes bibliographical references |
| 著者標目 | *International Conference on Ion Implantation in Semiconductors and Other Materials, 3d, Yorktown Heights, N.Y., 1972 Crowder, Billy L. ed |
| 件 名 | LCSH:Ion implantation -- Congresses
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| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC:537.6/22 |
| 書誌ID | 1000992583 |
| ISBN | 0306307561 |
| NCID | BA11291601 |
| 巻冊次 | ISBN:0306307561 |
| 登録日 | 2009.09.16 |
| 更新日 | 2009.09.17 |