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＜図書＞
Chemical vapor deposition : principles and applications
| 責任表示 | edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen |
|---|---|
| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | London : Academic Press , c1993 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | v, 677 p. ; 24 cm |
| 概要 | This wide-ranging volume covers recent developments in the theoretical understanding of the chemistry and physics of chemical vapour deposition (CVD). Contributors are drawn from both academia and ind...stry to achieve a balaced coverage of the subject. The volume emphasizes principles and understanding rather than details of specific materials or processes. Specific examples are given to illustrate the principles. 続きを見る |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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筑紫図 1C 400-449 | 431.86/H 77 | c1993 |
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072232000006295 |
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書誌詳細
| 一般注記 | Index:p.[663]-677 |
|---|---|
| 著者標目 | Hitchman, Michael L. Jensen, Klavs F., 1952- |
| 分 類 | DC20:671.735 |
| 書誌ID | 1000991724 |
| ISBN | 0123496705 |
| NCID | BA19797477 |
| 巻冊次 | ISBN:0123496705 |
| NBN | B9318203 |
| 登録日 | 2009.09.16 |
| 更新日 | 2009.09.16 |