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＜図書＞
Plasma etching : an introduction
| 責任表示 | edited by Dennis M. Manos, Daniel L. Flamm |
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| シリーズ | Plasma-materials interactions |
| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | Boston ; Tokyo : Academic Press , c1989 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | xii, 476 p. : ill. ; 24 cm |
| 概要 | Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuit manufacturing. Suitable for researchers, process engineers, and graduate students, this book introduces the basic physics and chemistr... of electrical discharges and relates them to plasma etching mechanisms. Throughout the volume the authors offer practical examples of process chemistry, equipment design, and production methods. 続きを見る |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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筑紫図 1C 400-449 | 427.6/Ma 46 | 1989 |
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062232000008513 |
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書誌詳細
| 一般注記 | Includes bibliographical references and index |
|---|---|
| 著者標目 | Manos, Dennis M. Flamm, Daniel L. |
| 件 名 | LCSH:Plasma etching |
| 分 類 | LCC:TA2020 DC19:621.044 NDC8:427.6 |
| 書誌ID | 1000911923 |
| ISBN | 0124693709 |
| NCID | BA07363130 |
| 巻冊次 | ISBN:0124693709 |
| 登録日 | 2009.09.16 |
| 更新日 | 2009.09.16 |