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＜図書＞
Plasma chemical processing
| 責任表示 | David M. Benenson and Emil Pfender, editors ; J.D. Chase ... [et al.] |
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| シリーズ | AIChE symposium series ; no. 186, v. 75 |
| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | New York : American Institute of Chemical Engineers , 1979 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | v, 92 p. : ill. ; 28 cm |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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筑紫図 1C 400-449 | 427.6/B 35 | 1979 |
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072232000009924 |
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書誌詳細
| 一般注記 | "Comprises the majority of the papers presented during four sessions on Plasma Chemical Processing at the 82nd National Meeting of the AIChE in Atlantic City, N.J., from August 29 to September 1, 1976."--Foreword Includes bibliographical references |
|---|---|
| 著者標目 | Benenson, David M. Pfender, Emil, 1925- Chase, J. D. American Institute of Chemical Engineers |
| 件 名 | LCSH:Plasma chemistry -- Industrial applications -- Congresses 全ての件名で検索 |
| 分 類 | LCC:TP156.P5 DC:660/.04/4 |
| 書誌ID | 1000906651 |
| NCID | BA13618134 |
| 登録日 | 2009.09.16 |
| 更新日 | 2009.09.16 |