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＜図書＞
フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える
フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ : チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル
| 責任表示 | 田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著 |
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| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | 東京 : 工業調査会 , 1996.8 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 262p ; 21cm |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図2F 開架 | 549.7/Ta 83 | 2003 |
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025112004003706 |
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書誌詳細
| 別書名 | その他のタイトル:超LSI、液晶、プリント板を支えるフォトマスク技術のはなし |
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| 一般注記 | 参考文献: 各章末 |
| 著者標目 | 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ> 竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ> 法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー NDLSH:集積回路 NDLSH:リソグラフィー |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC7:549.8 NDLC:ND386 |
| 書誌ID | 1000020708 |
| ISBN | 4769311494 |
| NCID | BN15133386 |
| 巻冊次 | ISBN:4769311494 ; PRICE:3000円+税 |
| NBN | JP97040504 |
| 登録日 | 2004.10.13 |
| 更新日 | 2004.10.13 |