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＜図書＞
Dissociative diffusion of nickel in silicon and self-diffusion of silicon (Japanese Journal of Applied Physics, vol.6)
| 責任表示 | Masayuki Yoshida |
|---|---|
| データ種別 | 図書 |
| 出版情報 | Tokyo |
| 本文言語 | 英語 |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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芸工図 3F 閲覧室 | 教員寄贈著作物 | AAA611/ヨシダマ/6 | 1967 |
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072031281015538 |
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書誌詳細
| 著者標目 | 吉田, 正幸 <ヨシダ、 マサユキ> |
|---|---|
| 書誌ID | 1000005103 |
| NCID | LB21866065 |
| 登録日 | 1995.03.01 |
| 更新日 | 2005.10.03 |