立体保護を活用した新規含ホウ素二重結合化合物の創製とその反応

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立体保護を活用した新規含ホウ素二重結合化合物の創製とその反応

フォーマット:
助成・補助金
Kyushu Univ. Production 九州大学成果文献
タイトル(他言語):
Synthesis and Reactions of Novel Boron-containing Double-bond Compounds by Taking Advantage of Steric Protection
責任表示:
時任 宣博(九州大学・有機化学基礎研究センター・教授)
TOKITOH Norihiro(九州大学・有機化学基礎研究センター・教授)
本文言語:
日本語
研究期間:
1997-1998
概要(最新報告):
ホウ素を含む二重結合化合物は非常に高反応性であるため安定な合成例はほとんどない。本研究では、高周期13族元素を含む多重結合化合物の化学への展開の足掛かりとして、有用な立体保護基である2,4,6-トリス[ビス(トリメチルシリル)メチル]フェニル(Tbt)基の導入による速度論的安定化の手法を用いて、安定なチオキソボラン1[TbtB=S]およびジボレン2[TbtB=BTbt]の合成、単離およびその基本的な構造・性質の解明を行うことを目的とした。 まず、Tbt基を活用することで初めての安定なジメルカプトボラン3[TbtB(SH)_2]の合成に成功するとともに、3と各種4、14、15族金属ジハライドの反応により対応する1,3,2,4-ジチアメタラボレタン誘導体4を合成し、その分子構造について系統的に比較検討を行った。得られた4のうちTbtBS_2SnPh_2(4a)の熱反応において、レトロ[2+2]反応が進行し、目的のチオキソボラン1が生成することを見出した。この1は1,3-ジエンとの反応により対応する[2+4]付加環化体5として捕捉可能であるが、付加体5もまた熱反応条件下レトロ[2+4]反応を行って1を再生することが判った。また同様の手法により、セレノキソボラン[TbtB=Se]の合成にも成功した。 一方、4aとジメチルスルホキシド(DMSO)との反応では、初めての安定なオキソボランのルイス塩基錯体であるオキソボラン-DMSO錯体6が生成することを見出した。また、6の加熱によりオキソボラン[TbtB=O]が発生することも明らかにした。 本研究のもう一つの目的化合物であったジボレン2についてはいまだその合成に成功していないが、本研究で得たホウ素-16族元素二重結合化合物に関する知見を基に検討を行うことで、近い将来必ずや合成できるものと考えている。 続きを見る
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