アブレーションによるラジカルの発生とラジカルビーム源への応用

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アブレーションによるラジカルの発生とラジカルビーム源への応用

フォーマット:
助成・補助金
Kyushu Univ. Production 九州大学成果文献
タイトル(他言語):
Generation of radicals by laser-ablation and their application to beam source
責任表示:
岡田 龍雄(九州大学・工学部・助教授)
OKADA Tatsuo(九州大学・工学部・助教授)
本文言語:
日本語
研究期間:
1993-1994
概要(最新報告):
レーザーアブレーション法により固体ターゲットから直接ラジカル種を発生し,ラジカルビーム源としての利用の可能性を評価する為,に放出されたラジカルの特性をレーザ誘起蛍光法により調べた。結果の概要は以下の通りである。 (1)YBa_2Cu_3O_<7-x>ターゲットらはBa,Y,YO,BaOの発生を確認した。 (2)YBa_2Cu_3O_<7-x>ターゲットより発生したYO分子ラジカルの運動エネルギーは数eVと大きいのに対し,回転エネルギーは0.2eV程度と小さい。大部分のエネルギーは運動エネルギーとして放出される。 (3)Al_2O_3,Si_3N_4,BaTiO_3など各種セラミックスをターゲットに用いて,発生した粒子種の同定を行なったところ,原子種がおもに発生することがわかった。 (4)YBa_2Cu_3O_<7-x>,Al_2O_3,Si_3N_4ターゲットから放出された原子種の速度分布関数は,いずれも2成分のシフティッドマツクスウェル分布で良く記述できる。 (5)生成したAlラジカルをスリットで切り出してビームを生成し,ビーム形状をイメージングレーザー誘起蛍光法により可視化した。これにより,高速の中性ビームが容易に生成できることが示された。 ビーム源として実用化の際重要になると思われるターゲットを繰り返しアブレートした際の劣化について調べた。その結果,繰り返し照射により微粒子放出量は増し,ラジカル放出量は減少するのが観測された。微粒子放出量より評価したターゲットの寿命は約50回程度である。劣化特性を記述する実験式を提案した。 続きを見る
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