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＜図書＞
半導体・MEMSのための超臨界流体
ハンドウタイ MEMS ノ タメ ノ チョウリンカイ リュウタイ
| 責任表示 | 近藤英一編著 ; 上野和良 [ほか] 著 |
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| データ種別 | 図書 |
| 出版者 | 東京 : コロナ社 |
| 出版年 | 2012.9 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | vii, 227p : 挿図 ; 21cm |
| 目次 | 1 超臨界流体とマイクロ・ナノプロセス 2 半導体とMEMSの製造プロセス 3 超臨界乾燥 4 超臨界流体を用いた半導体・MEMS洗浄技術 5 多孔質薄膜と細孔エンジニアリング 6 めっきへの応用 7 化学的薄膜堆積 8 超臨界流体を用いたエッチング加工 |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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筑紫図 1C 和500-599 | 549.7/Ko 73 | 2012 |
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060112012005084 |
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書誌詳細
| 別書名 | 奥付タイトル:Supercritical fluid technology in MEMS and semiconductor processing 異なりアクセスタイトル:半導体MEMSのための超臨海流体 |
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| 一般注記 | その他の著者: 内田寛, 曽根正人, 生津英夫, 服部毅, 掘照夫, 森口誠 引用・参考文献: p[212]-222 |
| 著者標目 | 近藤, 英一 <コンドウ, エイイチ> 上野, 和良 <ウエノ, カズヨシ> 内田, 寛 <ウチダ, ヒロシ> 曽根, 正人 <ソネ, マサト> 生津, 英夫 <ナマツ, ヒデオ> 服部, 毅 <ハットリ, タケシ> 堀, 照夫 <ホリ, テルオ> 森口, 誠 <モリグチ, マコト> |
| 件 名 | BSH:半導体 BSH:マイクロマシン BSH:超臨界流体 NDLSH:マイクロエレクトロニクス |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDC9:549.8 NDC9:431.8 NDC9:431.3 NDLC:PA51 |
| 書誌ID | 1001502007 |
| ISBN | 9784339008371 |
| NCID | BB10243699 |
| 巻冊次 | ISBN:9784339008371 ; PRICE:3400円+税 |
| NBN | JP22143919 |
| 登録日 | 2013.03.21 |
| 更新日 | 2013.03.21 |