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＜図書＞
薄膜の基本技術
ハクマク ノ キホン ギジュツ
| 責任表示 | 金原粲著 |
|---|---|
| データ種別 | 図書 |
| 版 | 第3版 |
| 出版者 | 東京 : 東京大学出版会 |
| 出版年 | 2008.7 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | xii, 227p ; 21cm |
| 目次 | 1 真空装置の基本(真空の必要性 基本的構成 ほか) 2 真空蒸着法(真空蒸着と基板 気体に関する基本的な法則と公式 ほか) 3 スパッタリング法(放電とプラズマ 放電プラズマの基礎 ほか) 4 膜厚測定法(膜厚とは:その多様性 膜厚の分類 ほか) 5 関連技術(ガラスその他の基板洗浄 電気抵抗測定 ほか) |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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理系図1F 開架 | 431.86/Ki 41 | 2008 |
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003112008010138 |
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理系図1F 開架 | 431.86/Ki 41 | 2008 |
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031112009011908 |
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筑紫図 1C 和500-599 | 549.8/Ki 41 | 2008 |
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060112012002684 |
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書誌詳細
| 別書名 | その他のタイトル:Introduction to fundamental thin film technologies |
|---|---|
| 一般注記 | 欧文タイトルは標題紙裏による |
| 著者標目 | 金原, 粲(1933-) <キンバラ, アキラ> |
| 件 名 | BSH:薄膜 |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDC9:549.8 |
| 書誌ID | 1001214102 |
| ISBN | 9784130628402 |
| NCID | BA86623394 |
| 巻冊次 | ISBN:9784130628402 ; PRICE:2800円+税 |
| 登録日 | 2009.09.18 |
| 更新日 | 2010.03.11 |