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＜図書＞
高品質極薄Si系絶縁膜の低温形成と機能評価に関する研究
コウヒンシツ ゴクウス Siケイ ゼツエンマク ノ テイオン ケイセイ ト キノウ ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
| 責任表示 | 研究代表者中島寛 |
|---|---|
| シリーズ | 科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書 |
| データ種別 | 図書 |
| 出版者 | [福岡] : [九州大学] |
| 出版年 | 1999.2 |
| 本文言語 | 日本語,英語 |
| 大きさ | 67p ; 30cm |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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中央図 自動書庫 | 科研報告書/九州大学/09650363 | 1999 |
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003121999004897 |
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書誌詳細
| 別書名 | 標題紙タイトル:平成9年度〜平成10年度科学研究費補助金(基盤研究C(2))研究成果報告書(研究課題番号09650363) |
|---|---|
| 著者標目 | 中島, 寛 <ナカシマ, ヒロシ> |
| 書誌ID | 1000181437 |
| NCID | BA42694908 |
| 登録日 | 2009.09.11 |
| 更新日 | 2011.10.07 |