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<図書>
フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える
フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ : チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル

責任表示 田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著
データ種別 図書
出版者 東京 : 工業調査会
出版年 1996.8
本文言語 日本語
大きさ 262p ; 21cm

所蔵情報


理系図2F 開架 549.7/Ta 83 2003
025112004003706

書誌詳細

別書名 その他のタイトル:超LSI、液晶、プリント板を支えるフォトマスク技術のはなし
一般注記 参考文献: 各章末
著者標目 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ>
竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ>
法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ>
件 名 BSH:リソグラフィー
NDLSH:集積回路
NDLSH:リソグラフィー
分 類 NDC8:549.7
NDC7:549.8
NDLC:ND386
書誌ID 1000020708
ISBN 4769311494
NCID BN15133386
巻冊次 ISBN:4769311494 ; PRICE:3000円+税
NBN JP97040504
登録日 2004.10.13
更新日 2004.10.13

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