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＜図書＞
Effects of Si3N4 films on diffusion of boron and extended defects in silicon during post-implantation annealing (Materials science forum, vols.196-201
| 責任表示 | Masayuki Yoshida |
|---|---|
| データ種別 | 図書 |
| 出版者 | Aedermannsdorf : Trans Tech Publications |
| 出版年 | 1995 |
| 本文言語 | 英語 |
所蔵情報
| 状態 | 巻次 | 所蔵場所 | 請求記号 | 刷年 | 文庫名称 | 資料番号 | コメント | 予約・取寄 | 複写申込 | 自動書庫 |
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芸工図 3F 閲覧室 | 教員寄贈著作物 | AAA611/ヨシダマ/62 | 1995 |
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072031294011232 |
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書誌詳細
| 著者標目 | 吉田, 正幸 <ヨシダ, マサユキ> |
|---|---|
| 書誌ID | 1000007223 |
| NCID | LB21869893 |
| 登録日 | 1996.04.30 |
| 更新日 | 2005.10.04 |