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<図書>
Impurity diffusion in silicon based on the pair diffusion model and decrease in quasi-vacancy formation energy. part one : phosphorus (Japanese Journal of Applied Physics, vol.34 part 1 no.11

責任表示 Masayuki Yoshida
データ種別 図書
出版者 東京 : 応用物理学欧文誌刊行会
出版年 1995
本文言語 英語

所蔵情報


芸工図 3F 閲覧室 | 教員寄贈著作物 AAA611/吉田正幸/58 1995
072031294011042

書誌詳細

著者標目 吉田, 正幸 <ヨシダ, マサユキ>
書誌ID 1000007058
NCID LB21869856
登録日 1995.12.22
更新日 2007.07.17