On the distiction between the dissociative and kick-out mechanism for site exchange in silicon (Japanese Journal of Applied Physics,vol.31 pt.1 no.9A)

On the distiction between the dissociative and kick-out mechanism for site exchange in silicon (Japanese Journal of Applied Physics,vol.31 pt.1 no.9A)

フォーマット:
図書
責任表示:
Masayuki Yoshida
本文言語:
英語
出版情報:
-. 日本応用物理学会
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